80% Wolfram Sputtering Target factpry
Det første trin er at rengøre med en blød, fnugfri klud vædet i acetone;
Det andet trin ligner det første trin, brug alkohol til at rense;
Det tredje trin er at rense med deioniseret vand. Efter rengøring med deioniseret vand placeres målet i en ovn til tørre ved 100 grader Celsius i 30 minutter. Det anbefales at bruge "fnugfri klud" til rengøring af oxid- og keramiske mål.
99,95% Tungsten Sputtering Targets
Det fjerde trin er at skylle målet med højtryks- og lavfugtighedsargongas for at fjerne alle urenhedspartikler, der kan forårsage buedannelse i sputtersystemet.
Bemærk: Når du bruger målet, skal du bære rene og fnugfrie beskyttelseshandsker, og absolut undgå direkte kontakt med målet med dine hænder.
99,95 % W Sputtering-mål
For at forhindre kortslutninger og lysbuer forårsaget af urene hulrum under sputteringsprocessen, er det nødvendigt med jævne mellemrum at fjerne det sputterede materiale, der er akkumuleret i midten og begge sider af sputtersporet. Dette hjælper også brugerne til kontinuerligt at arbejde med den maksimale effekttæthed. Udfør sputtering.
